磁場、振動與電鏡實驗室系列
氣動式主動除振系統
諾司實業與日本特許機器株式會社(Tokkyokiki Corporation)協力合作，提供半導體&光罩產業之微振動控制及電磁波控制更優質服務。
現今，機械工業與半導體產業對於振動的防制愈來愈佔有重要的地位。來自環境的振動均對生產機台造成很大的影響，特別在半導體產業，如E-beam Lithography，Electron Microscope等機台，電子束對於振動及外界電磁波之干擾特別敏感，因此有效地控制及防護便是必須的。
由日本團隊
客製化設計
客製化設計
高精度檢測設備
的最佳夥伴
的最佳夥伴
日本第一的
振動控制技術
振動控制技術
卓越的除振性能
攻克棘手的
低頻振動
低頻振動
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氣動式主動除振系統
隨著製程的推進，微振動控制的需求也日益漸增。雖然就整體工程而言所佔的費用比例甚少，但卻對電子束機台或檢測設備方面能否順利運作，有著重大的影響力。
諾司於過去承攬工程案件中，屢次收到客戶提出振動控制相關的問題，故與日本特許機器株式會社 (Tokkyokiki Corproration) 協力合作，可提供客戶進行微振動量測、模擬分析及專業建議諮詢，並提供主動式除振台及相關解決方案，以改善微振動問題。
(圖片出處：特許機器株式會社)
產品規格
| 描述 | 規格 |
|---|---|
| 產品尺寸 | 2000W x 2220D x 409H mm (標準高度，可訂製) |
| 產品重量 | 4960 kg |
| 空氣源 | 潔淨乾燥的壓縮空氣 |
| 供氣壓力 | 0.6 Mpa以上 |
| 氣源最大流量 | 150 L/min (A. N. R) |
| 通常消費流量 | 75 L/min (A. N. R) |
| 電源 | 單相 100 ~ 240V 50/60Hz |
相關配件介紹
氣動式主動微振動除振系統 - α系統
於1988年，最先在世界上發表和投產氣動式主動除振系統以來，一直在進化的產品。 近年，半導體、液晶產業的發展越來越微細化，為了提高生產效率，生產製造裝置和檢查裝置也不斷地向高精度、高速化方向發展。也因此，要求系統的除振性能能夠適應大負載，能迅速抑制油平台運動所引起的過度振動。 α系列產品不僅具有超凡的除振、制振性能，也具備位置復原的復歸功能。
α系統 - 三大性能
-
除振性能
反饋控制和地震前饋控制的結合，大幅提高震動絕緣效果
- 打造10-5m/s2(1mGal)以下的超微振動環境
- 隔絕從0.5Hz開始的地面振動
- ≦2Hz：-6dB ~ -20dB
>2Hz：>-20dB以上
-
制振性能
瞬間感知設備裝置的線性擾動，迅速整定
- 減小擾動，實現高速運行。
- 動檯的前饋控制(SFF)，可獲得更大的制振效果
PS. 動檯的前饋控制
致動器的驅動與設備裝置的動檯指令信號同步，迅速抑制動檯移動造成的定位偏移。
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復歸性能
實時監視位移並進行控制，復歸性能可實現精確的位置復原
- 與周邊設備的相對位移可控制在最小範圍
- 設備重心位置發生變動時，以5μm的精度瞬間回歸原點。
系統配置
對應機型示意圖
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